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大面积 SEM 成像 参考价 ￥面议
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品牌 型号 类型 实验室真空系统 厂商性质 其他 更新时间 2025-02-09 浏览次数 18 简要描述：大面积 SEM 成像通过 CAD 形状提取在大面积和 3D 中拼接 3D SEM 图像马赛克对比
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具有分辨率的直接激光刻录机 参考价 ￥面议
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品牌 型号 类型 实验室真空系统 厂商性质 其他 更新时间 2025-02-09 浏览次数 15 简要描述：具有分辨率的直接激光刻录机PICOMASTER 是一系列直接激光刻录机，可使用单个激光束创建高分辨率结构。这款多功能、低维护的激光刻录机可为特征和光栅周期提供分辨率。用户友好的 PICOMASTER 系列为您的激光光刻挑战提供了解决方案。对比
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Thermo Scientifc Helios 5 DualBeam 参考价 ￥面议
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品牌 型号 类型 实验室真空系统 厂商性质 其他 更新时间 2025-02-09 浏览次数 12 简要描述：Thermo Scientifc Helios 5 DualBeam凭借其的聚焦离子束和电子束性能、专有软件、自动化和易用性特征，重新定义了样品制备和三维表征的标准。对比
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超高真空电子束蒸镀设备 参考价 ￥面议
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品牌 型号 类型 实验室真空系统 厂商性质 其他 更新时间 2025-02-09 浏览次数 95 简要描述：超高真空电子束蒸镀设备的特征为其真空压力低于10-8至10-12 Torr，在化学物理和工程领域十分常见。超高真空环境对于科学研究非常重要，因为实验通常要求，在整个实验过程中，表面应保持无污染状态和使用较低能量的电子和离子的实验技术的使用，而不會受到气相散射的过度干扰。对比
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激光 分子束外延系统 参考价 ￥面议
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品牌 型号 类型 实验室真空系统 厂商性质 其他 更新时间 2025-02-09 浏览次数 15 简要描述：激光 分子束外延系统是一种用于物理学、材料科学领域的工艺试验仪器，综合了脉冲激光沉积和分子束外延的特点和优势。它能在高真空、真空条件下实现原位实时监控薄膜原子尺度层状外延生长。这一系统适用于多种有机、无机薄膜的制备，尤其适宜于用其它制膜设备和方法难以制备的高熔点、多元素（特别是含有气体元素时）、复杂层状结构的薄膜和超晶格的制备。对比
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pevcd化学气相沉积设备均匀可控 用于有机单体聚合成膜 参考价 ￥面议
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品牌 型号 SL200L 类型 实验室真空系统 厂商性质 其他 更新时间 2023-01-24 浏览次数 56 1、工作条件 （1）环境温度：0-40℃对比
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电子束光学镀膜机 气相沉积镀膜 参考价 ￥面议
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品牌 型号 SL200L 类型 实验室真空系统 厂商性质 其他 更新时间 2023-01-24 浏览次数 44 产品参数： 电子束镀膜设备 主要用途： 用于制备导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等，广泛应用于大专院校、科研机构的科研及小批量生产对比
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联合镀膜设备 真空设备厂家销售 参考价 ￥面议
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品牌 型号 SL200L 类型 实验室真空系统 厂商性质 其他 更新时间 2023-01-24 浏览次数 65 产品参数： 电子束镀膜设备 主要用途： 用于制备导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等，广泛应用于大专院校、科研机构的科研及小批量生产对比
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pevcd化学气相沉积专用用于有机单体 紧凑型实验室专用 参考价 ￥面议
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品牌 型号 SL200L 类型 实验室真空系统 厂商性质 其他 更新时间 2023-01-24 浏览次数 39 1、工作条件 （1）环境温度：0-40℃对比
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电子束光学镀膜机 磁控溅射镀膜 参考价 ￥面议
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品牌 型号 SL200L 类型 实验室真空系统 厂商性质 其他 更新时间 2023-01-24 浏览次数 32 产品参数： 电子束镀膜设备 主要用途： 用于制备导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等，广泛应用于大专院校、科研机构的科研及小批量生产对比
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成都磁控溅射镀膜机生产厂家 参考价 ￥面议
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品牌 型号 SL200L 类型 实验室真空系统 厂商性质 其他 更新时间 2023-01-24 浏览次数 30 产品参数 可以得到一致的膜厚，和的导电喷镀效果对比
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电子束镀膜设备 磁控溅射镀膜 参考价 ￥面议
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品牌 型号 SL200L 类型 实验室真空系统 厂商性质 其他 更新时间 2023-01-24 浏览次数 29 产品参数： 电子束镀膜设备 主要用途： 用于制备导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等，广泛应用于大专院校、科研机构的科研及小批量生产对比
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台式化学气相沉积基底型 用于有机单体聚合成膜 参考价 ￥面议
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品牌 型号 SL200L 类型 实验室真空系统 厂商性质 其他 更新时间 2023-01-24 浏览次数 27 1、工作条件 （1）环境温度：0-40℃对比
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PLD设备厂家销售 售后有保证可提供上门指导安装使用 参考价 ￥面议
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品牌 型号 SL200L 类型 实验室真空系统 厂商性质 其他 更新时间 2023-01-24 浏览次数 25 产品参数： 电子束镀膜设备 主要用途： 用于制备导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等，广泛应用于大专院校、科研机构的科研及小批量生产对比
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电子束镀膜 提供镀膜服务 参考价 ￥面议
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品牌 型号 SL200L 类型 实验室真空系统 厂商性质 其他 更新时间 2023-01-24 浏览次数 25 产品参数： 电子束镀膜设备 主要用途： 用于制备导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等，广泛应用于大专院校、科研机构的科研及小批量生产对比
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pevcd化学气相沉积设备膜致密均匀 用于有机单体聚合成膜 参考价 ￥面议
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品牌 型号 SL200L 类型 实验室真空系统 厂商性质 其他 更新时间 2023-01-24 浏览次数 29 1、工作条件 （1）环境温度：0-40℃对比
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化学气相沉积膜致密均匀 紧凑型实验室专用 参考价 ￥面议
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品牌 型号 SL200L 类型 实验室真空系统 厂商性质 其他 更新时间 2023-01-24 浏览次数 25 1、工作条件 （1）环境温度：0-40℃对比
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pevcd化学气相沉积引发式化学气相沉积 适用范围广 参考价 ￥面议
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品牌 型号 SL200L 类型 实验室真空系统 厂商性质 其他 更新时间 2023-01-24 浏览次数 23 1、工作条件 （1）环境温度：0-40℃对比
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等离子体增强化学气相沉积聚合物光电 紧凑型实验室专用 参考价 ￥面议
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品牌 型号 SL200L 类型 实验室真空系统 厂商性质 其他 更新时间 2023-01-24 浏览次数 29 1、工作条件 （1）环境温度：0-40℃对比
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等离子体增强化学气相沉积膜致密均匀 适用范围广 参考价 ￥面议
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品牌 型号 SL200L 类型 实验室真空系统 厂商性质 其他 更新时间 2023-01-24 浏览次数 25 1、工作条件 （1）环境温度：0-40℃对比
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pevcd化学气相沉积聚合物光电 紧凑型实验室专用 参考价 ￥面议
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品牌 型号 SL200L 类型 实验室真空系统 厂商性质 其他 更新时间 2023-01-24 浏览次数 25 1、工作条件 （1）环境温度：0-40℃对比
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电子束镀膜 气相沉积镀膜 参考价 ￥面议
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品牌 型号 SL200L 类型 实验室真空系统 厂商性质 其他 更新时间 2023-01-24 浏览次数 20 产品参数： 电子束镀膜设备 主要用途： 用于制备导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等，广泛应用于大专院校、科研机构的科研及小批量生产对比
