熱蒸鍍設備
熱蒸發製程是用於沉積材料中簡單的物理氣相沉積（PVD）。將材料（金屬或者有機材料等）置於真空環境中的電阻熱源中，使其加熱並蒸發，以最直接的方式蒸發到基板上，然後在基板上凝結成固態形成薄膜。熱蒸發比濺鍍提供更快的蒸發速率，但是，其容納材料的舟或坩堝尺寸有限，並且難以控制其蒸發速率。該方法通常用於小規模同時控制多組電阻熱源來沉積電極，如單層薄膜或共蒸發薄膜。
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简要描述：熱蒸鍍設備是用於沉積材料中簡單的物理氣相沉積（PVD）。將材料（金屬或者有機材料等）置於真空環境中的電阻熱源中，使其加熱並蒸發，以最直接的方式蒸發到基板上，然後在基板上凝結成固態形成薄膜。
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熱蒸發製程是用於沉積材料中簡單的物理氣相沉積（PVD）。將材料（金屬或者有機材料等）置於真空環境中的電阻熱源中，使其加熱並蒸發，以最直接的方式蒸發到基板上，然後在基板上凝結成固態形成薄膜。熱蒸發比濺鍍提供更快的蒸發速率，但是，其容納材料的舟或坩堝尺寸有限，並且難以控制其蒸發速率。該方法通常用於小規模同時控制多組電阻熱源來沉積電極，如單層薄膜或共蒸發薄膜。
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