金屬材料研究。

奈米薄膜。

太陽能電池。

客製化的腔體尺寸取決於基板尺寸

和其應用。

寬大的前開式門，並有兩個視窗和

視窗遮版用於觀察基材和蒸發源。

腔體的極限真空度約為10^-8 Torr。

客製化的基板尺寸，直徑為12寸

晶圓或470 x 370 mm²(玻璃)。

寬大的前開式門，並有兩個視窗和

視窗遮版用於觀察基材和蒸發源。

優異的薄膜均勻度小於±3％。

具有順序操作或共沉積的多個蒸發源。

基板可加熱到800°C。

利用載台旋轉來改善薄膜沉積之品質。

基板至蒸發源之間距為可調式的。

每個蒸發源和基材均有安裝遮板。

可以與傳送腔、機械手臂和手套

箱整合在一起。

結合離子源、濺鍍槍、電子束、

等離子清潔...。

基板冷卻。

殘留氣體分析儀。