日立分析仪器新型OE750 OES光谱仪在同类产品中具有开创性。其具备昂贵仪器所拥有的高性能，例如，其可分析金属中所有含量非常低ppm的元素。

但其如何实现以优惠亲民的购买价格提供高性能？日立如何降低光谱仪的运行成本？一切答案都归因于科技：

创新的光学系统设计提高性能，并缩短启动时间

光学系统是OE750操作的核心，当前正针对这一新光学概念申请四项，其可为光谱仪提供同类产品中的最*佳光学分辨率。此技术可确保检测所需的一切事物，即使在超低限值的情况下亦可进行检测。OE750内的光学系统配置经过的重新设计。外壳体积相对较小，从而缩短启动时间，确保仪器可更快地被使用。日立已纳入更多检测器，并将其放在单焦平面上；这一设计能提供优质的分辨率，并能清晰显示结果。最*后，检测器本身已经过升级，将在下文进行相关介绍。

*的检测器技术成本更低，但性能更好

降低光谱仪成本，但仍可提高性能的关键之处在于检测器本身。日立已使用新型CMOS芯片代替旧款CCD检测器。CMOS芯片具有更高的分辨率和改进的像素尺寸，以及更高的动态范围。仅使用一个镀膜传感器便可完成通常情况下需要几个CCD传感器才能完成的工作。由此，光谱仪成本有所降低，但与较昂贵的仪器具有同等的高性能。在低检出限的稳定性方面，CMOS检测器也优于旧款CCD检测器，这正是分析ppm含量范围内的金属时所需实现的目标。

低压力氩气净化降低运行成本，减少维护

标准OES仪器的一个问题是，对于低于200nm的波长，其光强会随时间推移而减弱，从而导致一些分析分辨率不足。日立已通过开发中压力氩气净化环境（一种真空技术和低压力氩气净化的组合）克服此问题，即使在150nm以下的波长情况下也可提高稳定性和强度。该系统能减少所需氩气量，并允许使用仅在某些时候才可被使用的无油泵。泵的功耗降低，而维护和校准间隔大幅增加，从而增加仪器的可用性，并降低运行成本。

改进火花光源，以提高效率和稳定性

日立也重新设计了火花光源。旧款光谱仪的此部件耗用大量功率以产生火花，且电源的任何波动均会改变火花特性，从而可能影响结果可靠性。日立进行创新，设计了开创性的OE750。通过提高火花源的效率，实现耗用较少功率和产生较少热量的目标。此款光谱仪中还新添了能提高火花可靠性和再现性的功能，例如，24V直流电源将火花与本地电源电压隔离，以使本地电源的波动不会影响光谱仪的性能。

新密封火花台改进检出限，并减少维护

在新设计中，火花台和光学系统实质上是一个密封单元。这是在最宽波长范围内获得一致低检出限和最*佳性能的最*佳方法。这是金属中气体分析的强制性要求，例如，钢铁中的氮元素的检出限为10ppm。密封单元设计确保空气和微粒无法进入火花台和光学系统区域，从而最*大限度减少分析干扰。同时入射狭缝和透镜之间的距离非常短，从而大幅改善光耦合。外壳专为透镜周围氩气的最*优层流而设，再次减少所需氩气量。此外，密封单元能减少维护需求，确保获得更长的正常运行时间和更好的结果。

无需降低性能标准

此性能可确保符合严格规范，检测废料中的杂质和痕量元素，并以当今金属行业要求的超低限值验证来料。