HMDS真空干燥箱的工作流程

　　HMDS的化学名称为六甲基二硅胺或氮烷, 外观是无色透明液体，无悬浮物及机械杂质。

　　HMDS真空干燥箱主要用途：

　　、、氟及各种衍生物等硅藻土、硅石、钛等粉末的表面处理。半导体工业中光致刻蚀剂的粘结助剂。

　　HMDS真空干燥箱与硅片反应机理：先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。

HMDS真空干燥箱的工作流程：
　　先确定HMDS真空干燥箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后HMDS真空干燥箱再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入 HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。