1、工作条件

（1） 环境温度： 0 - 40℃；

（2） 相对湿度： 20-50%；

（3）适用电源规格：380V ( AC )，50Hz；

2、技术参数

pecvd等离子体增强化学气相沉积设备主要由真空室、反应源、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、安装机台及电控系统等部分组成；

1. 技术指标：

（1）极限真空：5X10-5Pa

（2）真空室尺寸 直径400mm高350mm前开门结构 漏率8*10-8Pa/l/s。

（3）★射频电源

输出频率： (±%)；允许输出功率：600W。
负载匹配调谐方式： 自动跟踪调谐;
调谐电容显示方式： 主机数字显示电容位置;
控制精度： % （恒功率控制）。

（4）真空计 复合真空计(1高1低)测量范围 大气-1*10-5Pa。

（5）系统操作，能控制旋转基片加热台的温度、样品台的旋转、样品挡板的开

启；分子泵、机械泵及电磁阀门的开启；加热烘烤及照明。

（6）相序保护系统 380V相序保护器(相序.缺相保护)。

（7）Pecvd反应源 方式;喷淋式 尺寸;6英寸。

（8）样品台；室温-800度 输入220V 输出0-36V。

（9）4路质量流量计 准确度1% , 线性±1% ,工作压差-MPa。

（10）★陶瓷薄膜电容变送器(压力薄膜规)压力范围0-100kPa。

（11）机械泵 抽速不小于8L/s极限压力小于3Pa；

（12）★分子泵 品牌 抽速600L/s 安装接口CF150转速24000转/min

极限压力6*10-7 。

（13）★罗茨泵 抽速30L/s 极限压力 电机功率。

（14）旁抽阀 采用角阀+碟阀。

（15）插板阀CF150金属密封。

（16）水冷循环机 制冷量大于1500W。