无尘洁净室主要作用在于控制产品(如硅芯片等)所接触之大气的洁净度日及温湿度，使产品能在一个良好之环境空间中生产、制造，此空间我们称之为洁净室。按照惯例，无尘净化级别主要是根据每立方米空气中粒子直径大于划分标准的粒子数量来规定。也就是说所谓无尘并非没有一点灰尘，而是控制在一个非常微量的单位上。当然这个标准中符合灰尘标准的颗粒相对于我们常见的灰尘已经是小的微乎其微，但是对于光学构造而言，哪怕是一点点的灰尘都会产生非常大的负面影响，所以在光学构造产品的生产上，无尘是必然的要求。

无尘洁净室每立方米将小于0.3微米粒径的微尘数量控制在3500个以下，就达到了无尘标准的。芯片级生产加工的无尘标准对于灰尘的要求高于，这样的高标主要被应用在一些等级较高芯片生产上。0.5uM及以下的微尘数量被严格控制在每立方英寸1000个以内，这也就是业内俗称的1K级别。

无尘洁净室指对空气洁净度、温度、湿度、压力、噪声等参数根据需要进行控制的密闭性较好的空间。根据气流的流动状态分类，主要有非单向流洁净室、单向流洁净室、矢量洁净室。按受控粒子的性质划分。