CPS高精度纳米粒度分析仪

CPS高精度纳米粒度分析仪有三种型号：DC12000型、 DC18000型 和 DC24000UHR型。CPS纳米粒度分析仪是目前世界上分析速度、分辨率以及灵敏度离心沉降式纳米粒度分析仪。它可以分析任何粒度分布介于0.005微米和75微米之间的颗粒，提供比其它粒度分析方法好达10倍的分辨率，最小峰值宽度可小至峰值直径的2%，UHR型可达1%。

产品性能

CPS高精度纳米粒度分析仪能够提供高分辨率准确的分析结果，即使对于使用其它分析方法非常难分析的样品，CPS依然能够提供满意的分析结果。

高分辨率

CPS具有强大的分辨率，粒径差别在2%以内的窄峰可以被分辨出来。

下图所示样品包含五种不同的聚苯乙烯标定颗粒，在图中可以清楚地看到它们被分辨出来呈现为五个独立的粒度峰。

技术优势

CPS系统性能的基础是它*的示差沉降技术。

高转速：

CPS可以支持的转速为24,000转/分。对于超细颗粒，其分析速度比其它产品快3倍。使用速度调节技术，可以对粒度分布范围较广的样品进行分析。对于在其它分析仪上很多非常耗时(数小时或更长)的样品，CPS可以快速得到结果。

高精度标定：

CPS系统使用已知的标定颗粒进行标定，与美国国家标准和技术研究院(NIST)相兼容的标准保证了分析结果的一致性和精确度。使用内标法，也即把已知标定颗粒与待分析样品相混合，所得的峰值结果可以达到±0.25%的精度。

测量低密度颗粒：

示差沉降法过去一般用于测量密度大于分散介质液体密度的颗粒，CPS开发了一项新的技术(US Patent5,786,898)。很多用常规示差沉降法很难或者不可能分析的材料(例如油乳液、蜡乳液、粘性乳液或脂质体)，现在可以方便地使用CPS进行分析，而且精度很高。

速度调节：

CPS开发了一种特殊的圆盘设计使得在分析过程中可以调节圆盘的转速，而不会对沉降液体产生扰动，转速可以在20倍范围内升高或者降低，这样一来就使得分析的动态范围几乎增大了20倍。一般离心式分析仪的动态范围为40，但是CPS系统的动态范围可以超过1000。过去很多需要消耗整夜时间而且低精度的测量，现在可以使用示差沉降法快速测量，而得到高精度的结果。

低噪声光源/检测头：

CPS纳米粒度分析仪的光学系统和电路经过精心设计以降低信号中的噪声，信噪比通常为50000左右，低噪声使得系统

具有很高的灵敏度，可检测窄峰的重量通常小于0.01微克，这使得对于微克样品的常规高精度分析变得可行。

CPS系统以合理的价格提供高精度、高动态范围和高灵敏度的粒度分析解决方案。

标 定

CPS使用的标定颗粒都与美国标准和技术研究院(NIST)的其它标准进行过交叉对比，确保均值、峰宽或者半峰宽等方面的误差在±2%之内，而且颗粒的团聚性也符合要求。

可选标定颗粒：

直径小于10微米的标定颗粒通常以悬液的形式保存在水中，当然也可以保存在非水基悬液中。大于10微米可以有三种形态，水基悬液，非水基悬液或者干粉状态。每一套标定颗粒都有其粒度分析结果和分析证书。

应用实例

PEDOT及其复合材料的粒径测量

PEDOT是EDOT(3,4-乙撑二氧噻吩单体)的聚合物，PEDOT具有高电导率、高度的环境稳定性、对可见光具有高透过率等特点，广泛用于光伏、电容器、电致变色、触摸屏等行业，用来制作抗静电涂层、 OLED (有机电激发光二极管)、有机薄膜太阳能电池材料、电极材料、电化学生物传感器等。

PEDOT及其复合材料，比如PEDOT/PSS(聚乙撑二氧噻吩和聚苯乙烯磺酸根阴离子的化学聚合物)的粒度大小和粒度分布与其导电性能相关。CPS纳米粒度分析仪可以提供准确稳定的测量分析，有助于最终产品导电性能的评价。

下图是CPS纳米粒度分析仪测定PEDOT/PSS得到的结果，粒径为0.022微米(仪器使用转速为24,000转/分钟)。

CPS纳米粒度仪测量金刚石的粒径

金刚石微粉是指颗粒度细于36/54微米的金刚石颗粒，金刚石微粉硬度高、耐磨性好。广泛用于机械、航天、光学仪器、玻璃、陶瓷、电子、石油、地质、工业部门，用于制作PCD(聚晶金刚石)、 PDC(金刚石复合片)、陶瓷结合剂、金属结合剂、电镀产品；制作拉丝模、电镀磨具，陶瓷、金属结合剂磨具等；制造金刚石树脂结合剂弹性磨块等；用于精密机械、光学玻璃、精细陶瓷、宝石及半导体等产品的研磨抛光。

CPS纳米粒度分析仪测量金刚石微粉的粒径，可提供更精确更稳定的测量结果，有效控制产品的质量。

下图是CPS纳米粒度仪测得的两个不同粒径的金刚石样品的叠加图，蓝色曲线是粒径为0.278微米的金刚石，红色曲线是粒径为0.436微米的金刚石。

粒度分布分析

常被用作颜料、防晒霜和增稠剂。因此它有着广泛的应用，从油漆到食用色素到化妆品和护肤品，因此的粒径测量十分重要。例如纳米颗粒可以用于防晒乳液，因为它们散射的可见光比用于普通涂料或者颜料中的颗粒小，同时还能提供紫外线保护。

CMP(化学机械抛光)工艺中磨料颗粒的高精度粒径表征

随着半导体工业飞速发展，电子器件尺寸缩小，要求晶片表面平整度达到纳米级。CMP工艺作为芯片制造业的一个部分，其对于磨料的颗粒粒度表征要求十分重要。CMP过程中使用的磨料颗粒典型尺寸范围是10-200nm，其颗粒表征要求精确地确定纳米级颗粒的尺寸，因此高分辨率纳米粒度分析仪是磨料颗粒表征的解决方案。

磨料对CMP工艺起着至关重要的作用！

欢迎选用CPS纳米粒度分析仪为您解决磨料颗粒问题

测量高纯氧化铝粉

一般来说，含量大于99%的氧化铝称为高纯氧化铝，其特性有耐化学腐蚀、耐高温(正常使用在1600℃，短期1800℃)、耐骤冷骤热、密度高等。 99.995%高纯氧化铝粉主要用于LED人造蓝宝石晶体、高级陶瓷、PDP荧光粉及其他高性能材料；99.99%高纯氧化铝粉用于高压钠灯、新型发光材料、特殊陶瓷、高级涂层、三基色、催化剂及其他高性能材料。

粒度是高纯氧化铝粉产品的重要指标，CPS纳米粒度分析仪能给您带来精准稳定的测量结果!

下图是使用CPS分析仪平行测定3次高纯氧化铝粉得到的叠加图，表明仪器的重复性，样品的粒径为0.586微米。

分析氧化铝粉末时，为防止样品发生凝聚，需要添加入少量的乙酸。

氧化锌ZnO粉末

氧化锌俗称锌白，是锌的一种氧化物。氧化锌是一种常用的化学添加剂，广泛地应用于塑料、硅酸盐制品、合成橡胶、润滑油、油漆涂料、药膏、粘合剂、食品、电池、阻燃剂等产品的制作中。氧化锌的能带隙和激子束缚能较大，透明度高，有优异的常温发光性能，在半导体领域的液晶显示器、薄膜晶体管、发光二极管等产品中均有应用。氧化锌粉末还用于制作口腔用品，如牙膏、牙凝胶、牙粉等。

粒度仍然是评价氧化锌粉末的重要指标！

CPS纳米粒度分析仪是您的！

下图是CPS纳米粒度仪测得的氧化锌粉末的粒径分布结果，平均粒径为0.541微米仪器使用转速为12,000转/分

病毒颗粒的粒径分布及疫苗的研发

病毒颗粒的团聚和聚集对病毒治疗的临床安全性和疗效有重要影响。可以应用于病毒载体制剂，并且病毒颗粒大小和病毒聚集对基于病毒的生物制品的下游加工、配方和混合有着巨大的影响此款设备在有关工艺优化和产品质量等重要问题上有重要的参考价值。

CPS纳米粒度分析仪可以直观准确的表征病毒颗粒的团聚情况

上图是CPS纳米粒度分析仪测定不同处理方式下病毒颗粒的团聚情况的结果，仪器使用转速为24,000转/分可以明显看到病毒颗粒是否发生团聚现象，仪器分辨率很好

CPS利用差速离心沉降法的原理表征不同处理方式下病毒颗粒的沉降时间，以及病毒颗粒的团聚情况峰值清晰可见，为疫苗的研发生产提供全新的解决方案