OTL-PECVD-1200-1200双温区PECVD系统，由OTL1200真空管式炉、石英真空室、射频电源、GX供气系统、抽气系统、真空测量系统组成。

主要特点：

1、通过射频电源把石英真空室内的气体变为离子态。

2、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积所需的温度更低。

3、可以通过射频电源的频率来控制所沉积薄膜的应力大小。

4、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高。

5、广泛应用于：各种薄膜的生长，如：SiOx, SiNx, SiOxNy 和无定型硅(a-Si:H) 等。

OTL-PECVD-1200-1200双温区PECVD系统以瑞典Kanthal电阻丝为加热元件，采用双层壳体结构和30段程序控温仪表，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，炉管两端能不锈钢法兰密封，不锈钢法兰上安装有气嘴、阀门和压力表，抽真空时真空度能够达到10-3 Pa，具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能、等优点。

(3)、电阻均衡、温场均衡性好

(4)、加热元件：瑞典Kanthal  A1 进口电阻丝 （电阻丝可承诺保修2年）

当电路过流或漏电时，空开会自动断开

该炉配有通讯接口和软件，可以直接通过电脑控制炉子的各个参数，并能从电脑上观察到炉子上PV和SV温度值和仪表的运行情况，炉子的实际升  温曲线电脑会实时绘出，并能把每个时刻的温度数据保存起来，随时可以调出真空度。

（2）、采用成型。

（3）、炉膛里电阻丝的间距和节距全部按日本的热工技术布置、经过热工软件模拟温场

（4）、采用4周加热，温场更加均衡

（全部通过UL认证的进口电器）