日立2011年新推出了超g分辨冷场发射扫描电镜SU9000，达到扫描电镜电子分辨率0.4nm和STEM分辨率0.34nm。日立SU9000采取了*新改进的真空系统和电子光学系统，不仅分辨率性能明显提升，而且作为一款冷场发射扫描电镜甚至不需要传统意义上的Flashing操作，可以*效率的快速获取样品超g分辨扫描电镜图像。
特点：
1. 新型电子光学系统设计达到扫描电镜世*高分辨率：二次电子0.4nm（30KV），STEM 0.34nm（30KV）。
2. Hitachi的E×B系统，可以自由控制SE和BSE检测信号。
3. 全*真空技术设计使得SU9000冷场发射电子束具有超稳定和高亮度特点。
4. *新物镜设计显著提高低加速电压条件下的图像分辨率。
5. STEM的明场像能够调整信号检测角度，明场像、暗场像和二次电子图像可以同时显示并拍摄照片。
6. 与FIB兼容的侧插样品杆提高更换样品效率和高倍率图像观察效率。
应用领域：
1. 半导体器件
2. 高分子材料
3. 纳米材料
4. 生命科学
技术参数
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